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光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現

高橋清 [ほか] 編著. -- 工業調査会, 1994. <BB99702846>
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光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現

高橋清 [ほか] 編著. -- 工業調査会, 1994. <BB99702846>
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所蔵一覧 1件～2件（全2件）

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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 禁帯出区分 状態 返却予定日 予約
0001 工大宮 工大6F一般図書 棚17 549||H 19503086 帯出可 0件
0002 摂本館 摂寝2F普通図書フロア 549||H 29413508 帯出可 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 工大宮
配置場所 工大6F一般図書 棚17
請求記号 549||H
資料ID 19503086
禁帯出区分 帯出可
状態
返却予定日
予約 0件
No. 0002
巻号
所蔵館 摂本館
配置場所 摂寝2F普通図書フロア
請求記号 549||H
資料ID 29413508
禁帯出区分 帯出可
状態
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

タイトル／著者 光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現 / 高橋清 [ほか] 編著
ヒカリ レイキ プロセス ノ キソ : プロセス ノ テイオン ・ ムソンショウカ オ ジツゲン
出版・頒布事項 東京 : 工業調査会 , 1994.3
形態事項 266p ; 21cm
巻号情報
ISBN 4769311222
注記 執筆者: 西澤潤一ほか
注記 章末: 参考文献
学情ID BN10527941
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 高橋, 清(1934-)||タカハシ, キヨシ <AU10037407> [ほか]編著
著者標目リンク 西澤, 潤一(1926-)||ニシザワ, ジュンイチ <AU10024051>
件名標目等 半導体||ハンドウタイ
件名標目等 光化学||コウカガク
件名標目等 電子部品||デンシブヒン
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