常翔学園 摂南大学図書館

ここまできたイオン注入技術 : 超LSIプロセスのリード役

布施玄秀, 平尾孝編著. -- 工業調査会, 1991. -- (K books ; 79). <BB99464893>
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所蔵一覧 1件~3件(全3件)

No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 禁帯出区分 状態 返却予定日 予約
0001 工大宮 工大6F一般図書 棚22 549.8||F 19800152 帯出可 0件
0002 摂本館 摂寝2F普通図書フロア 549.8||F 29614278 帯出可 0件
0003 工枚方 工枚普通図書 549.7||F 89606805 帯出可 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 工大宮
配置場所 工大6F一般図書 棚22
請求記号 549.8||F
資料ID 19800152
禁帯出区分 帯出可
状態
返却予定日
予約 0件
No. 0002
巻号
所蔵館 摂本館
配置場所 摂寝2F普通図書フロア
請求記号 549.8||F
資料ID 29614278
禁帯出区分 帯出可
状態
返却予定日
予約 0件
No. 0003
巻号
所蔵館 工枚方
配置場所 工枚普通図書
請求記号 549.7||F
資料ID 89606805
禁帯出区分 帯出可
状態
返却予定日
予約 0件

書誌詳細

タイトル/著者 ここまできたイオン注入技術 : 超LSIプロセスのリード役 / 布施玄秀, 平尾孝編著
ココマデ キタ イオン チュウニュウ ギジュツ : チョウ LSI プロセス ノ リードヤク
出版・頒布事項 東京 : 工業調査会 , 1991.6
形態事項 182p ; 19cm
巻号情報
ISBN 4769360800
シリーズ名 K books <BB00027381> 79//a
学情ID BN06481370
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 布施, 玄秀 (1951-)||フセ, ゲンシュウ <AU50043938> 編著
著者標目リンク 平尾, 孝||ヒラオ, タカシ <AU10080410> 編著
件名標目等 半導体||ハンドウタイ
件名標目等 半導体||ハンドウタイ