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Principles of plasma discharges and materials processing

Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg. -- 2nd ed. -- Wiley-Interscience, 2005. <BB00128864>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 禁帯出区分 状態 返却予定日 予約
0001 摂本館 摂寝B1保存書庫2 427.6||L 20505231 長期閲覧中 2025/3/31 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 摂本館
配置場所 摂寝B1保存書庫2
請求記号 427.6||L
資料ID 20505231
禁帯出区分
状態 長期閲覧中
返却予定日 2025/3/31
予約 0件
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書誌詳細

タイトル／著者 Principles of plasma discharges and materials processing / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
版事項 2nd ed
出版・頒布事項 Hoboken, N.J. : Wiley-Interscience , c2005
形態事項 xxxv, 757 p. : ill. ; 25 cm
巻号情報
ISBN 0471720011
注記 Includes bibliographical references (p. 735-748) and index
学情ID BA72469354
本文言語コード 英語
著者標目リンク *Lieberman, M. A. (Michael A.) <AU10051590>
著者標目リンク Lichtenberg, Allan J <AU10051589>
件名標目等 Plasma dynamics
件名標目等 Thin films -- Surfaces
件名標目等 Plasma etching
件名標目等 Plasma chemistry -- Industrial applications
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